Physical vapor deposition components, and methods of treating components

WO2005077677 Art A1 25. August 2005

Anmelder: Honeywell International Inc., Honeywell International, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005077677
Aktenzeichen: EP05712828
Anmeldetag: 2. Februar 2005
Veröffentlichung: 25. August 2005
Rechtsraum: WO
IPC: B44C1/22C25D5/34C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Honeywell International Inc.
Honeywell International, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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