Plasma processing apparatus and plasma processing method

WO2005078782 Art A1 25. August 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005078782
Aktenzeichen: EP05719119
Anmeldetag: 15. Februar 2005
Veröffentlichung: 25. August 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/511C23F4/00H01L21/3065H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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