Fluorine-containing cyclic compound, fluorine-containing polymer compound, resist material using same and method for forming pattern

WO2005080306 Art A1 1. September 2005

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005080306
Aktenzeichen: EP05719202
Anmeldetag: 17. Februar 2005
Veröffentlichung: 1. September 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C07C49/573C07C31/44C07C33/44C07C49/507C07C69/54C08F16/24C08F20/28C08F32/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie

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