Method for cleaning treatment chamber in substrate treating apparatus and method for detecting endpoint of cleaning

WO2005081302 Art A1 1. September 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005081302
Aktenzeichen: EP05710294
Anmeldetag: 17. Februar 2005
Veröffentlichung: 1. September 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/44H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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