K Hlsystem F R Ger Te mit Leistungshalbleitern und Verfahren zum K Hlen Derartiger Ger Te
WO2005081309
Art A2
1. September 2005
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005081309
- Aktenzeichen
- EP05733322
- Anmeldetag
- 22. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 1. September 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/467
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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