K Hlsystem F R Ger Te mit Leistungshalbleitern und Verfahren zum K Hlen Derartiger Ger Te

WO2005081309 Art A2 1. September 2005

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005081309
Aktenzeichen
EP05733322
Anmeldetag
22. Februar 2005
Veröffentlichung
1. September 2005
Rechtsraum
WO
IPC
H01L23/467
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.937 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen