Styrene derivative, styrene polymer, photosensitive resin composition, and method for forming pattern

WO2005082956 Art A1 9. September 2005

Anmelder: NEC Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005082956
Aktenzeichen: EP05710703
Anmeldetag: 25. Februar 2005
Veröffentlichung: 9. September 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C08F12/32C07C233/75C07C251/24G03F7/022G03F7/033H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Corporation
NEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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