Resist polymer, resist composition, process for pattern formation, and starting compounds for production of the resist polymer

WO2005085301 Art A1 15. September 2005

Anmelder: MITSUBISHI RAYON CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005085301
Aktenzeichen: EP05720673
Anmeldetag: 8. März 2005
Veröffentlichung: 15. September 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/10G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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