Method of manufacturing photomask blank

WO2005085950 Art A1 15. September 2005

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005085950
Aktenzeichen: EP04717814
Anmeldetag: 5. März 2004
Veröffentlichung: 15. September 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027B05C11/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von