Self-cleaning catalyst chemical vapor deposition device and cleaning method therefor

WO2005086210 Art A1 15. September 2005

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005086210
Aktenzeichen: EP05720476
Anmeldetag: 10. März 2005
Veröffentlichung: 15. September 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/3065C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

444 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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