Method for forming pattern, thin film transistor, display device and method for manufacturing the same, and television device

WO2005091375 Art A1 29. September 2005

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005091375
Aktenzeichen
EP05721348
Anmeldetag
16. März 2005
Veröffentlichung
29. September 2005
Rechtsraum
WO
IPC
H01L29/786H01L29/423H01L29/49H01L21/288H01L21/336H01L21/8234H01L21/8238H01L27/088H01L27/092G02F1/13G02F1/1368G09F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

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