Method for producing high heat resistant conductive thin film, high heat resistant conductive thin film produced by that method, multilayer film, and device having multilayer film

WO2005093118 Art A1 6. Oktober 2005

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005093118
Aktenzeichen: EP05721495
Anmeldetag: 25. März 2005
Veröffentlichung: 6. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/06C23C14/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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