Photosensitive composition, photosensitive film, and permanent pattern and process for forming the same

WO2005093515 Art A1 6. Oktober 2005

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005093515
Aktenzeichen: EP05721636
Anmeldetag: 23. März 2005
Veröffentlichung: 6. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/033G03F7/004G03F7/029G03F7/20G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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