Unit layer posttreating catalytic chemical vapor deposition apparatus and method of film formation therewith

WO2005093809 Art A1 6. Oktober 2005

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005093809
Aktenzeichen: EP05721493
Anmeldetag: 25. März 2005
Veröffentlichung: 6. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/318C23C16/42C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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