Semiconductor device and method for manufacture thereof

WO2005093845 Art A1 6. Oktober 2005

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005093845
Aktenzeichen: EP05721136
Anmeldetag: 18. März 2005
Veröffentlichung: 6. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78C23C16/42H01L21/316H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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