Radiation-sensitive composition, laminate, process for producing the sane and electronic part
WO2005096100
Art A1
13. Oktober 2005
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005096100
- Aktenzeichen
- EP05727322
- Anmeldetag
- 30. März 2005
- Veröffentlichung
- 13. Oktober 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/038C08G59/32G03F7/033G03F7/40H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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