Method for forming ti film and tin film, contact structure, computer readable storing medium and computer program

WO2005098913 Art A1 20. Oktober 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005098913
Aktenzeichen: EP05728535
Anmeldetag: 8. April 2005
Veröffentlichung: 20. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28C23C16/14C23C16/34H01L21/285H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von