Semiconductor device manufacturing method

WO2005098922 Art A1 20. Oktober 2005

Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005098922
Aktenzeichen: EP05720255
Anmeldetag: 8. März 2005
Veröffentlichung: 20. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23C16/44H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Kokusai Electric Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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