Techniques promoting adhesion of porous low k film to underlying barrier layer

WO2005098925 Art A1 20. Oktober 2005

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005098925
Aktenzeichen: EP05730569
Anmeldetag: 24. März 2005
Veröffentlichung: 20. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316H01L21/3105C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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