Photosensitive resin composition and photoresist film

WO2005101123 Art A1 27. Oktober 2005

Anmelder: The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005101123
Aktenzeichen
EP05728757
Anmeldetag
7. April 2005
Veröffentlichung
27. Oktober 2005
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004G03F7/027G03F7/033C08F220/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 The Nippon Synthetic Chemical Industry

The Nippon Synthetic Chemical Industry ist ein japanischer Spezialchemiekonzern mit Schwerpunkt auf Klebstoffen und Polymeren. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Farben und Klebstoffe, ergänzt durch Optiktechnik. Die Anmeldungen bis 2017 betreffen unter anderem Klebstoffzusammensetzungen für Polarisationsfolien.

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