Photosensitive resin composition and photoresist film
WO2005101123
Art A1
27. Oktober 2005
Anmelder: The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005101123
- Aktenzeichen
- EP05728757
- Anmeldetag
- 7. April 2005
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/027G03F7/033C08F220/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
The Nippon Synthetic Chemical Industry
The Nippon Synthetic Chemical Industry ist ein japanischer Spezialchemiekonzern mit Schwerpunkt auf Klebstoffen und Polymeren. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Farben und Klebstoffe, ergänzt durch Optiktechnik. Die Anmeldungen bis 2017 betreffen unter anderem Klebstoffzusammensetzungen für Polarisationsfolien.
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