Radiation-sensitive resin composition, interlayer insulation film, microlens and process for producing them

WO2005101124 Art A1 27. Oktober 2005

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005101124
Aktenzeichen: EP05710672
Anmeldetag: 18. Februar 2005
Veröffentlichung: 27. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023G02B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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