Substrate processing equipment and substrate processing method

WO2005101485 Art A1 27. Oktober 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005101485
Aktenzeichen: EP05709605
Anmeldetag: 2. Februar 2005
Veröffentlichung: 27. Oktober 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/68H01L21/02H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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