System and method of removing chamber residues from a plasma processing system in a dry cleaning process

WO2005102545 Art A2 3. November 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005102545
Aktenzeichen: EP05712217
Anmeldetag: 28. Januar 2005
Veröffentlichung: 3. November 2005
Rechtsraum: WO
IPC: B08B6/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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