Faraday dose and uniformity monitor for plasma based ion implantation

WO2005104175 Art A1 3. November 2005

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005104175
Aktenzeichen: EP05724504
Anmeldetag: 4. März 2005
Veröffentlichung: 3. November 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H01J37/244

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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