A method for the fabrication of gaas/si and related wafer bonded virtual substrates
WO2005104192
Art A2
3. November 2005
Anmelder: The California Institute of Technology 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005104192
- Aktenzeichen
- EP05757035
- Anmeldetag
- 21. April 2005
- Veröffentlichung
- 3. November 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- The California Institute of Technology
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
California Institute of Technology
Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.
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