Semiconductor substrate and process for fabricating the same
WO2005104198
Art A1
3. November 2005
Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005104198
- Aktenzeichen
- EP04728908
- Anmeldetag
- 22. April 2004
- Veröffentlichung
- 3. November 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/66H01L21/8239H01L27/105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujitsu Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujitsu
Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.
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