Siloxane Epoxy Polymers As Metal Diffusion Barriers

WO2005106947 Art A1 10. November 2005

Anmelder: Polyset Company, Inc., RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE, Wang, Pei-I, Lu, Toh-Ming, Murarka, Shyam P., Ghoshal, Ramkrishna 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005106947
Aktenzeichen: EP05758739
Anmeldetag: 25. April 2005
Veröffentlichung: 10. November 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Polyset Company, Inc.
RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Wang, Pei-I
Lu, Toh-Ming
Murarka, Shyam P.
Ghoshal, Ramkrishna
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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