In-situ process chamber preparation methods for plasma ion implantation systems

WO2005114692 Art A2 1. Dezember 2005

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005114692
Aktenzeichen: EP05751813
Anmeldetag: 19. Mai 2005
Veröffentlichung: 1. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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