Novel structures of silicon carbide metal semiconductor field effect transistors for high voltage and high power applications
WO2005114746
Art A1
1. Dezember 2005
Anmelder: Nanyang Technological University 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005114746
- Aktenzeichen
- EP05741087
- Anmeldetag
- 18. Mai 2005
- Veröffentlichung
- 1. Dezember 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/812
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nanyang Technological University
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
Nanyang Technological University
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