Positive photosensitive resin composition, and interlayer dielectrics and micro lenses made therefrom

WO2005116764 Art A1 8. Dezember 2005

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005116764
Aktenzeichen: EP05743766
Anmeldetag: 25. Mai 2005
Veröffentlichung: 8. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/022G03F7/004G03F7/023H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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