Pattern formation method

WO2005116774 Art A1 8. Dezember 2005

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005116774
Aktenzeichen: EP05743868
Anmeldetag: 25. Mai 2005
Veröffentlichung: 8. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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