Correcting method, predicting method, exposuring method, reflectance correcting method, reflectance measuring method, exposure apparatus, and device manufacturing method

WO2005117075 Art A1 8. Dezember 2005

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005117075
Aktenzeichen: EP05743755
Anmeldetag: 25. Mai 2005
Veröffentlichung: 8. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G01N21/55G01N21/59G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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