Silicon layer production method and solar cell production method

WO2005117079 Art A1 8. Dezember 2005

Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005117079
Aktenzeichen: EP05740927
Anmeldetag: 17. Mai 2005
Veröffentlichung: 8. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/208C01B33/02C30B19/10C30B29/06H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CANON KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

10.659 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von