Liquid treatment system and liquid treatment method

WO2005117081 Art A1 8. Dezember 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005117081
Aktenzeichen: EP05727767
Anmeldetag: 31. März 2005
Veröffentlichung: 8. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B08B3/02B08B5/04B08B7/04H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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