Photoresists Comprising Polymers Derived From Fluoroalcohol-Substituted Polycyclic Monomers

WO2005118656 Art A2 15. Dezember 2005

Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY, E.I. du Pont de Nemours and Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005118656
Aktenzeichen: EP05779732
Anmeldetag: 17. Mai 2005
Veröffentlichung: 15. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C08F14/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
E.I. du Pont de Nemours and Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 DuPont

US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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