Techniques for analyzing non-uniform curvatures and stresses in thin-film structures on substrates with non-local effects

WO2005119192 Art A2 15. Dezember 2005

Anmelder: CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005119192
Aktenzeichen
EP05726002
Anmeldetag
18. März 2005
Veröffentlichung
15. Dezember 2005
Rechtsraum
WO
IPC
G01L1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

1.994 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen