Semiconductor device and manufacturing method thereof

WO2005119763 Art A1 15. Dezember 2005

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005119763
Aktenzeichen: EP05743806
Anmeldetag: 25. Mai 2005
Veröffentlichung: 15. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8244H01L27/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NEC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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