Positive Photosensitive Resin Composition
WO2005121895
Art A1
22. Dezember 2005
Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005121895
- Aktenzeichen
- EP05749064
- Anmeldetag
- 7. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 22. Dezember 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/022G03F7/023G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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