Negative acting photoresist with improved blocking resistance

WO2005121897 Art A1 22. Dezember 2005

Anmelder: PPG Industries Ohio, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005121897
Aktenzeichen: EP05754555
Anmeldetag: 27. Mai 2005
Veröffentlichung: 22. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: PPG Industries Ohio, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 PPG Industries

US-amerikanischer Hersteller von Farben, Lacken und Spezialchemikalien mit Sitz in Pittsburgh, Pennsylvania, einer der weltweit größten Beschichtungshersteller.

1.745 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von