Production method for mask blank-use translucent substrate, production method for mask blank, production method for exposing mask, production method for semiconductor device and production method for liquid crystal display unit, and method of correcting defect in exposing mask

WO2005124455 Art A1 29. Dezember 2005

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005124455
Aktenzeichen: EP05753452
Anmeldetag: 22. Juni 2005
Veröffentlichung: 29. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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