Photosensitive composition, method for forming pattern, and permanent pattern

WO2005124462 Art A1 29. Dezember 2005

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005124462
Aktenzeichen: EP05748822
Anmeldetag: 9. Juni 2005
Veröffentlichung: 29. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/035C08G18/32G03F7/004G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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