Method for designing structured asics in silicon processes with three unique masking steps
WO2005124598
Art A2
29. Dezember 2005
Anmelder: BAE SYSTEMS Information and Electronic Systems Integration Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005124598
- Aktenzeichen
- EP05760417
- Anmeldetag
- 9. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06F17/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- BAE SYSTEMS Information and Electronic Systems Integration Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
BAE Systems Information and Electronic Systems Integration Inc.
US-amerikanische Tochtergesellschaft von BAE Systems für elektronische Verteidigungssysteme, Sensorik und Kommunikationstechnik.
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