Electron beam source, and electron-beam application device

WO2005124815 Art A1 29. Dezember 2005

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005124815
Aktenzeichen: EP05750873
Anmeldetag: 15. Juni 2005
Veröffentlichung: 29. Dezember 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/065H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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