Plasma Processing Equipment

WO2006001253 Art A1 5. Januar 2006

Anmelder: Kyoto University, TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006001253
Aktenzeichen: EP05750834
Anmeldetag: 20. Juni 2005
Veröffentlichung: 5. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/511H01L21/3065H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kyoto University
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyoto University

Renommierte japanische Universität mit breiter Grundlagenforschung in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

1.706 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von