Near-field exposure method and device manufacturing method using the same

WO2006004177 Art A1 12. Januar 2006

Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006004177
Aktenzeichen: EP05758132
Anmeldetag: 30. Juni 2005
Veröffentlichung: 12. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CANON KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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