Photomask blank, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

WO2006006540 Art A1 19. Januar 2006

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006006540
Aktenzeichen: EP05758242
Anmeldetag: 8. Juli 2005
Veröffentlichung: 19. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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