Photosensitive insulating resin composition, cured product thereof and use thereof

WO2006006581 Art A1 19. Januar 2006

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006006581
Aktenzeichen: EP05765654
Anmeldetag: 12. Juli 2005
Veröffentlichung: 19. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08G18/62C08G59/40H01B3/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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