Method and system for dispensing resist solution

WO2006006982 Art A2 19. Januar 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006006982
Aktenzeichen: EP05735529
Anmeldetag: 13. April 2005
Veröffentlichung: 19. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B05C11/02B05D3/12B05C11/00B05C13/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von