Method and processing system for controlling a chamber cleaning process

WO2006006991 Art A1 19. Januar 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006006991
Aktenzeichen: EP05746553
Anmeldetag: 14. April 2005
Veröffentlichung: 19. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23F4/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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