Magnetic levitation lithography apparatus and method

WO2006007167 Art A2 19. Januar 2006

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006007167
Aktenzeichen: EP05753267
Anmeldetag: 20. Mai 2005
Veröffentlichung: 19. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H02K5/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik

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