Silicon epitaxial wafer and process for producing the same

WO2006008915 Art A1 26. Januar 2006

Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006008915
Aktenzeichen: EP05765167
Anmeldetag: 27. Juni 2005
Veröffentlichung: 26. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/322C30B29/06H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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